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冠層分析儀的使用要注意這幾個(gè)細(xì)節(jié)
發(fā)布時(shí)間： 2021-06-27 點(diǎn)擊次數(shù)： 1698次冠層分析儀就是屬于光學(xué)法的，特點(diǎn)是攜帶方便，不需要進(jìn)行額外的資料處理，可以直接給出葉面積指數(shù)值，原理是在假定植物冠層內(nèi)的各元素隨機(jī)分布，依據(jù)冠層間隙度或光學(xué)特性反演葉面積指數(shù)。缺點(diǎn)是測(cè)量所得葉面積指數(shù)有著較大的偏差。葉片的聚集效應(yīng)越強(qiáng)，偏差越大。因此在測(cè)量時(shí)，一般需要用直接法校正。測(cè)量時(shí)根據(jù)果園的大小。分別設(shè)置3-5個(gè)測(cè)量點(diǎn)，在每個(gè)測(cè)量點(diǎn)再分別用方框取樣法和冠層分析法測(cè)量葉面積指數(shù)。方框取樣法是將方框隨機(jī)放在樹冠上，將方框內(nèi)的的葉片全部摘下，用葉面積儀測(cè)量框內(nèi)的葉面積，然后根據(jù)樹冠體積和栽植密度計(jì)算葉面積指數(shù)。測(cè)點(diǎn)的選擇與冠層分析儀方法相同。冠層分析儀是分別對(duì)應(yīng)測(cè)量天空5個(gè)范圍的散射輻射，這5個(gè)范圍的中心視天頂角分別為7°、23°、38°、53°和68°，分別與冠層上部和下部測(cè)量輻射通透密度，并根據(jù)轉(zhuǎn)換模型估算葉面積指數(shù)。在每一個(gè)測(cè)點(diǎn)的冠層頂部測(cè)一次，下部重復(fù)測(cè)量6-10次，冠層下方的測(cè)量在同一水平面上，且在無(wú)直接輻射的條件下進(jìn)行。為了避免光環(huán)境迅速的變化對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響，選擇無(wú)直接輻射的條件下進(jìn)行，然后用冠層分析儀附帶的軟件對(duì)測(cè)量的資料進(jìn)一步加工以校正估值葉面積指數(shù)。
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